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关键词:RIE、RIBE、反应离子束刻蚀、CAIEB、化学辅助离子束刻蚀、过渡金属、磁性材料、MRAM、GMR、TMR、Pt、Cu、TeGe、PZT型号:MU7...
我公司能够提供下列服务:电子束曝光:制备光刻胶图像作为掩膜,最小可以制备线宽为7nm的图像
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